博纳热PECVD气相沉积炉发货
近日，博纳热PECVD气相沉积炉已经发货，PECVD气相沉积炉，在薄膜制备领域的一项杰出成果，运用先进的等离子体化学气相沉积技术，通过精确控制工艺参数，为金属、半导体、绝缘体等材料提供高质量的薄膜沉积方案。
这一技术的广泛应用，不仅推动了微电子、光电、平板显示及储能等多个领域的发展，更为用户提供了高效、稳定、可靠的薄膜制备解决方案。
设备特点
此次发货的博纳热PECVD气相沉积炉，汇聚了多项创新技术和设计优势。
1、采用了HRE电阻丝加热方式，最高温度可达1200℃，能够满足多种高温沉积工艺的需求。同时，设备配备了50段可编程自动控制系统，可精确控制各项工艺参数，实现高效、稳定的薄膜制备过程。
2、在安全防护方面，博纳热PECVD气相沉积炉同样表现出色，具有超温保护和漏电自动断电功能，能够在遇到异常情况时迅速切断电源，保障操作人员的安全，双层风冷结构和日本技术真空吸附成型的氧化铝多晶纤维炉膛，使得设备在高效散热和卓越保温方面达到了新的高度。
3、PECVD气相沉积炉升温速率控制在20℃/分以内，控温精度高达±1℃，确保了薄膜质量的稳定性和一致性。同时，采用射频辉光技术，沉积速率达到10Å/S，大幅提升了生产效率。此外，通过多点射频馈入和特殊气路分布，设备实现了薄膜均匀性8%的优异指标，为用户提供了更高品质的薄膜产品。
4、为了满足不同行业的需求，博纳热PECVD气相沉积炉还具备强大的可扩展性和兼容性，可以配备多种不同规格和类型的反应室，以适应不同材料和工艺的制备需求，同时还支持多种气体混合和流量控制方式，为用户提供了更加灵活和便捷的操作体验。
总结
此次发货的博纳热PECVD气相沉积炉，不仅代表着我们在薄膜制备领域的最新成果，更体现了我们对用户需求的深入理解和关注，博纳热将继续秉承“创新、品质、服务”的理念，为用户提供更加优质、高效、可靠的设备和服务，推动整个行业的持续发展和进步。
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